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        產(chǎn)品分類

        您的位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 儀器 > 實(shí)驗(yàn)室儀器 > TFE000051QuattroESEM環(huán)境掃描電鏡

        產(chǎn)品中心
        產(chǎn)品名稱: QuattroESEM環(huán)境掃描電鏡
        產(chǎn)品型號(hào): TFE000051
        產(chǎn)品時(shí)間: 2025-09-18

        客服熱線:4008005586

        Thermo Scientific ™Quattro™ ESEM™具有*的環(huán)境功能的超多功能高分辨率SEM。將成像和分析的性能與*的環(huán)境模式(ESEM™)相結(jié)合,可在自然狀態(tài)下對(duì)樣品進(jìn)行研究。它適用于各種學(xué)術(shù),產(chǎn)業(yè)和政府想要的易于使用需要不同的經(jīng)驗(yàn)水平和學(xué)科平臺(tái)上的多個(gè)用戶的通用性。

        產(chǎn)品介紹

        與EDS共面的電子背散射衍射(EBSD)以及波長色散X射線光譜儀(WDS)。Quattro ESEM支持可選的高真空加熱臺(tái),AutoScript,基于Python的腳本工具和新的RGB陰極發(fā)光(CL)檢測器。RGB CL檢測器產(chǎn)生彩色圖像,突出顯示常規(guī)電子或X射線成像技術(shù)無法看到的樣品特性。高真空加熱臺(tái)可在高溫下觀察干凈的樣品。借助AutoScript,用戶可以對(duì)成像和舞臺(tái)移動(dòng)進(jìn)行編程,以進(jìn)行無人值守的數(shù)據(jù)采集。

         

        產(chǎn)品特點(diǎn)

        · 同時(shí)包含基座和比色皿檢測模塊,以擴(kuò)展實(shí)驗(yàn)靈活性和擴(kuò)大動(dòng)態(tài)范圍。

        · 測量稀釋樣品,執(zhí)行動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn)并獲取細(xì)菌培養(yǎng)物的光密度測量結(jié)果。

        · 比色皿檢測模塊包括溫度控制和攪拌區(qū)域。

        · 在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品, 同步獲取二次電子像和背散射電子像。

        · 安裝原位冷臺(tái)、珀?duì)柼渑_(tái)和熱臺(tái),可在-165℃ 到1400℃ 溫度范圍內(nèi)進(jìn)行原位分析。

        · 分析性能,樣品倉可同時(shí)安裝三個(gè)EDS探測器,其中兩個(gè)EDS端口分開180°、WDS和共面EDS/EBSD。

        · 針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD分析。

        · 靈活、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái),105°傾斜角度范圍,可觀察樣品。

        · 軟件直觀、簡便易用,并配置用戶向?qū)Ъ?nbsp;Undo(撤銷)功能,操作步驟更少,分析更快速

        · 全新創(chuàng)新選項(xiàng),包括可伸縮RGB陰極熒光(CL)探測器、1100℃高真空熱臺(tái)和AutoScript(基于Python的腳本工具API)

         

        參數(shù)

        電子束

        · 束流范圍:1 Pa~200 na

        · 加速電壓范圍:200 V-30 kV

        · 著陸能量范圍:20 eV~30 kev,可選光束減速

        · 放大倍數(shù):6~2500000×

        · 內(nèi)部寬度:340 mm

        · 分析工作距離:10 mm

        · 端口:12

        · EDS起落角:35°

        · 3個(gè)同步的EDS探測器,兩個(gè)在180°

        · 高真空成像

          –0.8納米@30千伏(STEM)

          –1.0 nm@30Kv(東南)

          –2.5納米@30千伏(瘋牛病)

          –3.0 nm@1Kv(東南)

        光束減速的高真空成像

          –3.0 nm@1Kv(BD模式*+BSED*)

          –2.1 nm@1Kv(BD模式*+ICD*)

          –3.1nm@200 V(BD模式*+ICD*)

        · 低真空成像

          –1.3 nm@30 kV(SE)-2.5 nm@30 kV(SE)-3.0 nm@3 kV(SE)

        · ESEM

          –1.3 nm@30 kV(SE)

        探測器

        Quattro同時(shí)檢測來自現(xiàn)有探測器或探測器段的任意組合的四個(gè)信號(hào):

        · ETD-Everhart-Thornley SE探測器·低真空SE檢測器(LVD)

        · 氣態(tài)SED(用于ESEM模式)

        · 紅外攝像機(jī),用于在室內(nèi)

        · Nav-CaM中觀察樣品:用于樣品導(dǎo)航的室內(nèi)彩色光學(xué)相機(jī)

        · DBS-可回收或安裝在-thelens定向背向散射探測器下的鏡頭

        · DBS-GAD-透鏡式氣體分析檢測器

        · STEM 3+-可伸縮分段(BF,4 df,6 hdf)掃描透射探測器

        · 濕STEM-Peltier級(jí)集成STEM用于觀察薄濕樣品

        · RGB-CLD-真彩色CL探測器

        · 柱內(nèi)檢測器(ICD),用于束流減速模式*DNA 和RNA (260 nm)

        真空系統(tǒng)

        · 1×250升/秒

        · 1輛PVP2×IGP

        · 集成的IGP電池備份(系統(tǒng)保護(hù)從非計(jì)劃停電)

        · 通過透鏡差動(dòng)泵浦

        · 光束氣體路徑長度:10毫米或2毫米

        · 疏散時(shí)間:≤5分鐘到高真空和≤5分鐘

        分鐘到ESEM

        · 可選擇的CryoCleaner冷阱

        · 可選升級(jí)為無油滾動(dòng)/干式PVPs

        產(chǎn)品料號(hào)產(chǎn)品貨號(hào)*產(chǎn)品名稱*產(chǎn)品規(guī)格
        TFE000051TFE000051QuattroESEM環(huán)境掃描電鏡 QuattroESEM

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